استفاده از پیزوالکتریک در فرآیند لایه نشانی

استفاده از پیزوالکتریک در فرآیند لایه نشانی

اسلاید 1: استفاده پیزوالکتریک در لایه نشانیامیرحسین عمرانی ، عرفان محمدیپروژه مشترک مرکز نظری توماس یانگ با همکاری مرکز فناوری دانشگاه امپریال لندن

اسلاید 2:

اسلاید 3: Content :3-Physical vapor deposition1-Coating system Specification2-Chemical vapor deposition1- (CVD) 2-PECVD3-MOCVD Thermal evaporationE_Beam Gun EvaporationSputtering

اسلاید 4:

اسلاید 5: deviceThe various section of the designed device have been introduced. The stepper motors apply to slope and rotate the substrate are controlled by an AVR schedule microcontroller. The controlling commands are transferred to the stepper motor sthrough two electrical feedthroughs. To retain the substrate temperature during the deposition process at Compartment temperature , new liquid (for example cold water) circulating system containing a copper pile acting as a warmth exchanger dependent to the copper substrate warmer was used. The warm exchanger is connected to this warmer apply a roller bearing.