صفحه 1:
Design and Fabrication of multi-layer
antireflection coating consisting of ZnS and
[۷۲0۳2 امه صضاه ظ
فرایاخت ا فلووري و روی مولشر
,الم ۳ 0
ا اسماده ۱ os
زو
صفحه 2:
مسب ل تاريدية
a
ليا سوت
© © و ف
كك
1
صفحه 3:
eee ia dl
© i 9 277
ی
مروري بر روش
Se nea a es
و فرآيند ساخت
0000
نتيجه كيرى
ييشنهادات
صفحه 4:
3 5
a 1001 Pee
سس(
Solution process 200۳ 2 تفه ی
epee Tar |
I Chenival vapor ۳ UD) /P dslecudas beamepitaay
Deposition (CVD) 1
مروري بر روش L> Electron beam
Plasma-enhanced- CVD > Vacuum evaporation >
Pulse laser deposition >
Atomic layer depositi > Ton plating
بررسی مواد اولیه erates pene |
و فرآیند ساخت اكت ‘Metal organie-CVD > Sputtering
Mist (CVD)
آناليز نمونه ها Reactive Radio frequency
Plate
نتيجه كيرى
ييشنهادات
صفحه 5:
rae رو wr درل
مروري بر روش
Dip-coating Doctor Blade En ae
و فرآیند ساخت
ma 4
=e 5
آناليز نمونه ها :۲ سم
مت 2
Spray-coating
Aerosol Jet
صفحه 6:
تبدیل دز ازجا دا 55]
صفحه 7:
x
Incident flux angle
۱ و
MgF2
Vapor source
صفحه 8:
a
ویر روی مور Pye و ۳ |
انواع روش لایه نشانی
Progress in Physics of Applied Materials
مروري بر روش
Fabrication of mul
MgF2
30000
ات
3 طراحى: ساخت و مطالعه پوششهای
۳ خراشان )61,۸0(
نتیجه گیری
پیشنهادات
صفحه 9:
Qo
abel fo tered nara 4
صفحه 10:
aie ° a
اژواای رش زلف ea
samp so 525 s70 و
3 (MgF2) (MgF2) (MgF2) (MgF2)
51 52
( MgF2 -80) | (MgF2/ZnS -
a
۳ oe
50
desde Nhe
ا زواباى رركن
صفحه 11:
صفحه 12:
ات
انواع روش لایه نشانی
مروري بر روش
بررسی مواد اولیه
و فرايند ساخ
00-0 م ال poly
5 XRD
خواص اپتکی
صفحه 13:
(ن.ه) برااس مص اط
40 @ ۵ 6۵ © © © ©
@ (deyrer)
صفحه 14:
tu bayer
single «|
ee
@ Geyer)
nO (a0)
۷
tog ۳۹۳ اس
5
مه مه
00
با افزايش لايه ها
بلورينكي افزايش)
صفحه 15:
(142) 7460
(022) Suz
(OLL) ۷
n-que)AsuoyU
صفحه 16:
تسم ی وان
»نا 100.0 مات
RMRC ا 2.08 View field:
صفحه 17:
صفحه 18:
2
| — Theoretical
| 0
عَبورابقيكن براحست
طول موج
Tarswissivn (%)
PO.5.9 0983.8 35
055 هت 55ت OD GND همه هنت ۵
Oweleagtk (aw)
صفحه 19:
single layer
|— tue faver
با افزايش لایه ها عبور افزایش
پیدا کرده است
waveleayth(ow)
صفحه 20:
۳۰۶۱۶۶۱9۰ )0(
@0D GD GD هد GRD همه هنت 6۵
Oweleagtk (ow)
صفحه 21:
2
3
8
c
£
3
1
عِ
=
cE
1000 1100
wavelength(nm
صفحه 22:
ضریب شکست برحسب طول موج
5 (2ی - ین + بر - و
صفحه 23:
با افزايش لايه ها از يك لايه 2
ل
دولايه ضريب شكست كاهش با
J
صفحه 24:
900
Wavelength(nm)
صفحه 25:
كك | |
انواع روش لایه نشانی
0
1 افو ی زارنه کاهش بدا کرده ات (عامی مرثر ب منظور مود عاصت تادرتابه بوخش های
مروري بر روش en
ی
بررسی مواد اولیه
ewan Sern Recent : 1
22200 افزايش زاویه رشد بلورینگی افزایش می uk
افزايش زاويه رشد باعث تخلخل بيش تر در نمونه هاي با زاويه
۱
بدون تخلخل)
صفحه 26:
Ss
MgF:/2nS/MgF2
244/202/143
0-1942 8
061
238
567
508
1.66
0.059
Table 2
Parameters of Mg: J ZnS films obtained for samples from optical and microstructure characterization,
sample 0 بو & Se
Films MgF:/ZnS MgF:/znS حور
Thickness (1 294/216 2948/2144 8
Angle (°) 2460-3248 0-63.74 17.28-7431
۶0 0.48 052 057
252 27 3.01 . (س و
92.83 93.28 92.80 خر
(105 cm) 258 279 3.56
243 2.05 173
0.039 0.045
صفحه 27:
ات
انواع روش لایه نشانی
مروري بر روش
بررسی مواد اولیه
و فرآيند ساخت
آناليز نمونه ها
نتيجه كيرى
4
~
یت 09 ی
RAE La DLS igen
ای 9 ۳
طری ال ماضت شش یه Ca ree 1
۳ 57 گر
Aho Sir el pba fu ade Saint ore dns M gt F410)
07
11 1 از 3 2321
ean مات ور Aes»
0/1100 ea 0
صفحه 28:
1
a
Pye Pea ام
2
?