بخار فلزات

صفحه 1:
(Vapor Deposition) 

صفحه 2:


صفحه 3:
۴ * بخار فیزیکی فلزات ۱ Physical Vapor Deposition ‎(PVD) 1‏ * بخار شیمیایی فلزات ‎Chemical Vapor Deposition (CVD) ‎ 

صفحه 4:
° روش ۳۱۷/۲ روشی تمیز و همراه با خلاء . خشک است. * در لین روش همه جای شیء مورد عملیات قرار می گیرد نه یک جای مشخص. ‎PVD‏ * در لین روش اتمی که در فاز گاز قرار دارد جاى اتمى كه در فاز جامد را دارد مى كيرد و مولكول جلبه جا شده به فاز جامد باز مى كردد. / 

صفحه 5:
سه تکنولوژی اساسی برای ۵ ۳۷ وجود دارد: ‏ <روکش کاری یونی < تبخیر aes” & PVD 

صفحه 6:
‎CVD * ۲‏ روشی‌بیلی تسولید محصولاتبا ۱ ‏خاوصو کارلییبللاست * لین روش معمولا در صنابع نیمه هادی ها ۳ ۱ برای تولید فیلم قلع استفاده می شود. ۱( 8 * در لين روش ویفر در معرض‌یک يا چند مواد پشیران سبک قرار می گیرد که با سطح مورد ‏نظر واکنش داده و رسوب مناسب را تولید می كيده ‎ ‎ ‎ ‎ ‏۱ ‏* اين فرايند معمولا توسط جريان لوده , محفظه انجام مى شود. ‎ 

صفحه 7:
۶ 6۷0 در فرآیندهای‌ساختق طعاتکوچک؛ به طور گ‌سترده مورد لستفاده قرار می كيرد. ‎١ ۳‏ * فرم هاى مختلف مورد استفاده: 6 خک کریشتال-بلی کریستالسبی شکل_هم بافت ها * این مواد شامل: سیلیسکون-رشته کربن-کربن غیر رشته . ای-کرین های غیر لوله ای-5102- ۰ سیلیکون ژرمانيم-تنگستن-سیلیکون کاربید -سیلیکون نیترید-تیتانیم نیترید- 

صفحه 8:
۱ اطبقه بندی بر اساس فشار عملیات ت | ۲ فرآیند در فشار اتسفر (۳69) % فرآیند در فشار ‎(LPCVD) gb‏ (کاهش فشار باعث کاهش تملیل گازبه تغییر می شود و 1 0/27۳۵ 1 اين موضوع كيفيت كار را بالامى برد.) ۷ فرآیند در خلاء(0۲۱۷۵۱۷0) لا طبقه بندی بر اساس خصوصیات ‎AACVDY‏ ۴ ‎DLICVDY‏ 

صفحه 9:
۱-تبخیر و انتقال مولکول های پیشران به راکتور 5 ۲-پخش شدن مولکول های پیشران در سطح گر ۳-جذب سطحی مولکول های پیشران ‎CVAD‏ ‏27 ۴-واکنش دادن مولکول های پیشران‌با سطح و يكى شدن با فيلم ۵-واکنش دوباره و بازكشت به فاز كاز 

صفحه 10:


صفحه 11:
* از روش می توان برای ساخت قطعات توپر و . توخالی استفاده کرد. * برای ساخت قطعات خللی عی توان از ماده با دمای تبخیر پایین به عنوان پاییه استفاده کرد. * سپس با نشان دادن مولکول های فلز مورد نظر روی سطح پلیه,قطعه مورد نظر را تولید کرد. * با حرارت دادن قطعه می توان ماد پایه را ذوب کرد. 

صفحه 12:
* به روش بخار فلزات نیز می توان قطعات تویر . ساخت. eee ‏نظر را روی آن قرار داد.‎ ** از روش بخار فلزات نیز می توان برای عملیات حرارتی و مهندسی سطح نیز استفاده کرد. روش های رایج برای بخار فلزات: ۴۱۵6۲۵۵ ۳۱۵5۵ 

صفحه 13:


صفحه 14:


صفحه 15:


بخار فلزات ()Vapor Deposition محمدرضا شفیعیان 85471507 Deposition انواع بخار فلزات • بخار فیزیکی فلزات Physical Vapor Deposition )PVD( • بخار شیمیایی فلزات Chemical Vapor Deposition )CVD( معرفی • روش PVDروش ی تمی ز و همراه با خالء خشک است. • در ای ن روش هم ه جای شیء مورد عملیات قرار می گیرد نه یک جای مشخص. • در ای ن روش اتم ی که در فاز گاز قرار دارد جای اتمی که در فاز جامد را دارد می گیرد و مولکول جاب ه ج ا شده ب ه فاز جام د باز می گردد. معرفی سه تکنولوژی اساسی برای PVDوجود دارد: روکش کاری یونی تبخیر کاتد پرانی تعاریف و شرایط • • • • CVDروش یب رای ت ول ی د م حص والتب ا ارایی ا الس .ت ب خ لوصو ک ای ن روش معموال در ص نایع نیم ه هادی ها برای تولید فیلم قلع استفاده می شود. در این روش ویفر در معرض یک یا چند مواد پشیران سبک قرار می گیرد که با سطح مورد نظر واکنش داده و رسوب مناسب را تولید می کند. ای ن فرآین د معموال توسط جریان گاز و در محفظه انجام می شود. تعریف و کاربرد • CVDدر ف رآیندهایس اختق طعاتک وچک ب ه ط ور گ سترد ه م ورد اس تفاد ه ق رار م ی گ یرد. • فرم های مختلف مورد استفاده: تک کریستال-پلی کریستال-بی شکل-هم بافت ها • این مواد شامل: سیلیسکون-رشته کربن-کربن غیر رشته ای-کربن های غیر لوله ای-SiO2- سیلیکون ژرمانیم-تنگستن-سیلیکون کاربید-سیلیکون نیترید-تیتانیم نیترید- انواع CVD ‏طبقه بندی بر اساس فشار عملیات فرآیند در فشار اتمسفر ()APCVD فرآیند در فشار پایین ()LPCVD (کاهش فشار باعث کاهش تمایل گاز به تغییر می شود و این موضوع کیفیت کار را باال می برد). فرآیند در خالء()UHVCVD طبق ه بندی بر اس اس خصوصیات فیزیکی بخار ‏AACVD  ‏DLICVD  گام های فرآیند CDV -1تبخیر و انتقال مولکول های پیشران به راکتور -2پخش شدن مولکول های پیشران در سطح -3جذب سطحی مولکول های پیشران -4واکنش دادن مولکول های پیشران با سطح و یکی شدن با فیلم -5واکنش دوباره و بازگشت به فاز گاز کاربرد ها • • • • از روش می توان برای ساخت قطعات توپر و توخالی استفاده کرد. برای ساخت قطعات خالی می توان از ماده با دمای تبخی ر پایی ن ب ه عنوان پای ه استفاده کرد. س پس ب ا نشان دادن مولکول های فلز مورد نظر روی سطح پایه،قطعه مورد نظر را تولید کرد. ب ا حرارت دادن قطع ه م ی توان ماد پایه را ذوب کرد. کاربرد ها • به روش بخار فلزات نیز می توان قطعات توپر ساخت. • با ساخت پایه مرکزی می توان بخار فلز مورد نظر را روی آن قرار داد. از روش بخار فلزات نیز می توان برای عملیات حرارتی و مهندسی سطح نیز استفاده کرد. روش های رایج برای بخار فلزات: ‏Electron Beam  ‏Plasma  نمونه ای از مواد تولیدی نمونه ای از مواد تولیدی