صفحه 1:
صفحه 2:
se 2 ان
1 روش پوشش دهی 2۷
نام و نام خانوادگی:
استاد مربوطه:
بهار سال:
دانشگاه :
صفحه 3:
wi LO
arse 6
12 ا ©
4
مزابا و معایب روش
کاربردهای فرایند
Eg OOO gl» Fas Elst
صفحه 4:
* یک فیایند تولید در چندین بخش صنعتی شامل صنعت نیمه هادی»
سرامیک و غیره
۷0جزء تکنیک هایی است که به طور نسبی
(از سال )۱۸٩۳ 4
صفحه 5:
+ ی 1 ie
.. مواحل فرآیند پوشش دهی 0000 به طور کلی -۲ 7
-١ حمل جرم كونه هاى گازی به ۲- واکنش های شیمیایی همگن یرای
مجاورت بستر 0 تشكيل كونه های حد واسط
۳- رسوب گونه ها یامواد حد واسط بر ۴- ورود اتم (پوشش دهی) به سطح در
| روی سطح بستر حال رشد و تشکیل محصولات جانبی
| ۵-دفع محصولات جانبى و نفوذ آنها به ١ ع- انتقال محصولات جانبى به خارج از
He توده گاز محيط واكنش
صفحه 6:
مکانیزم پوشش دهی به روش CVD
صفحه 7:
صفحه 8:
۴ -کاربردهای فرایند 000
هی ما رسوب فيلمهاى رسوب فیلمهای
علد HR ..سلیکونیآمورف و
برای تولید الماس پوشش دهی برای تولید.
سنتزی مواد مقاوم به خوردگی
پوششی دهي برای پوشش دهي برای پوئش دهی برای
رسيدن به خواص رسيدن به خواص رسیدن به خواص نوری
گرمایی مدنظر مکانیکی مدنظر و الکتریکی مدنظر
صفحه 9:
۵ -انواع روشهای 000 بر اساس پیشماده
۱- پیشماده گازی ۲- پیشماده مایع. ۳- پیشماده جامد
“F Gt منظور منابعی است که در ** حراردت دادن پیشماده ۳ نیاز به حرارت دادن زیاد
رم 77۰ دمای محیط به صورت گاز برای تبخیر در محفظه جهت تبخیر شدن(عیب) :
وجود دارند. ها *P تبخیر جداگانه مواد و 5
"1" انتقال گازی راحت تر روشهای انتقال تبخیر پیوستن در راه انتقال گازی
۳ برخی پیششماده ها پیشماده به درون ** نشستن رسوب و پوشش
خطرناک امعفظه واكنش؟ برروی بستر =
۳ جلوگیری از واکنش گازی F
ب) انتقال با گاز حامل
*5* ج) حبابسازی درون
oe 1
صفحه 10:
صفحه 11:
بخار
20 به کمک آثروسل(000) امس لسسسی 000
0 تزییق‌مليع مستقیم ٩/۱۵
روشهای
0( )کمک شده با پلاسما مایکروویو (0000000) ,0000 اسان سسست))
000 با سلاسما( دسح( سس !»07 0000 ,000000 <)
00007 كلحتولق يل مسد حاد:0) ادحد سا0 سم( موه (COOO,
000 تلونلزو(۳۱() بسن 0006 ,00600)
صفحه 12:
00 فثار يلييغكاهش ولكنش
ناخولسته)
سا سس 00 ,دوب
صفحه 13:
۸ - مقایسه بين 000و ۳0۵0
gales COO ۳00 در مقایسه با ١
oak a> COOL دارای پیچیدگی ;
SLA یشتری است و رای به 0
Soe 3 ea رسوب گذاری
, 0| در آنهابه صورت جهتدار دست آوردن شرایط مستكاد به رلحتى
میتوند با شرلیط رب ١ رشد مناسپ نیازمند “jie Sagi Seas Shy
تستهای زیادی است. 7 محیط یس ازگار گردد.
13
صفحه 14:
Coatings
ADVANCED SURFACE COATING TECHNOLOGY
www.l
صفحه 15:
صفحه 16:
applications”, 2th Ed, noyes
publications Park Ridge, New Jersey, U.S.A, 2001.
2.K. L. Choy, “Chemical vapor deposition of coatings", Materials Science 48 (2003) 57-170
3 ۷ Xu; X. T. Yan, “Chemical Vapor Deposition, an Integrated Engineering Design for
{5 Advanced Materials" Springer, 2008.
4. C.A. Dorval Dion; J.R. Tavares, “Photo-Initiated Chemical Vapor Deposition as a Scalable
Particle Functionalization
Technology (A Practical Review)". Powder Technology, 239 (2013) 484-49.
5. K.K.S. Lau; J. A. Caulfield; Karen K. Gleason,
Films Grown by Hot
‘Structure and Morphology of Fluorocarbon
Filament Chemical Vapor Deposition” Chem, Mater, 12 (2000 3032-3037(
صفحه 17: